Вести

У наставку ћемо детаљно представити различите карактеристике ТФТ ЛЦД екрана:

(1) Велики: прва генерација ТФТ-а велике стаклене подлоге (3000ммк400мм) почетком 1990-их, површина стаклене подлоге је проширена на 6800ммк880мм у првој половини 2000. године, а стаклена подлога од 950ммк1200мм је такође пуштена у рад недавно.

(2) Висока интеграција: Резолуција ЛЦД пројекцијског 1,3-инчног ТФТ дисплеја чипа је КСГА, који садржи милионе пиксела. Резолуција је . Дебљина филма 16,1-инчног ТФТ аморфног силицијума СКСГА (1280к1024) је само 50 нанометара. Техничка интеграција ТАБОНГЛАС-а и СИСТЕМОНГЛАСС-а, технички захтеви за опрему и снабдевање и техничке потешкоће су већи од оних код традиционалних ЛСИ.

(3) Комплетне функције: ТФТ екран са течним кристалима је првобитно коришћен као коло за избор адресе матрице, што је побољшало карактеристике светлосног вентила са течним кристалима. За екране високе резолуције, ЛЦД екран може да постигне висококвалитетан приказ високе резолуције подешавањем напона у опсегу 0-6 В дисплеја (његова типична вредност је 0,2~4В) и правилном контролом циљног елемента.

(4) Ниска цена: Стаклене подлоге и пластичне подлоге у основи решавају проблем трошкова великих полупроводничких интегрисаних кола и отварају широк простор примене за примену великих полупроводничких интегрисаних кола.

(5) Флексибилност процеса: Поред распршивања, технологије ласерског жарења, ЦВД (хемијско таложење паре) МЦВД може изабрати аморфни филм, филм са више производа и филм са једним производом поред традиционалног формирања филма као што је молекуларно хемијско таложење паре. Не само да може да ради силиконски филм, већ и друге ствари. И-ВИ и тетра-В полупроводнички филмови.

У општим пољима примене, ЛЦД екран са течним кристалима заснован на ТФТ технологији је стуб индустрије информационог друштва, а може се користити и за брзи развој танкослојних транзистора. (ТФТ-ОЛЕД) екран са равним екраном.